满成功，就可以成为华国第一家实现中高端芯片大规模量产的半导体企业。
这意味着大量的订单，急剧膨胀的市值，和丰厚的奖金！
与公司的每一个人息息相关，在陈河宇掌权后，对山海微电的组织架构梳理重塑，留下来的人基本领到了一份分红股权。
每到年底，会根据净利润额进行奖金分配，大大提高了员工的研发生产积极性。
“陈总，芯片的掩膜模板制作完成，我们可以先去光刻机车间参观。”
何婷波迎了上来。
“老板。”
王茂松招呼道。
“按你说得来，预估良品率能控制在多少？”
陈河宇走在前方，侧身问道。
“结合实验室的数据，粗略判断在80%以上。”
技术方面的核心参数，何婷波最为熟悉，不假思索道。
“低了一些，要是那100台NXT1950iDUV光刻机到货以后，还有下降的空间吗？”
陈河宇追问道。
20%的报损率着实有些高，但没办法，山海微电的光刻机大多都是老旧的设施，能正常刻录芯片就算不错了，不敢奢望太多。
对比国产光刻机70%的良品率，这个数值勉强还能接受。
“估计可以做到90%！”
何婷波回道。
英特、波通这些芯片巨头，基本也是使用的NXT1950iDUV光刻机，良品率稳定在90%。
“嗯，我知道了。”
陈河宇点点头回道，在EUV光刻机还未诞生的年代，90%的良品率实属不易。
要等到2018年，EUV光刻机得到广泛应用，才能应对日益精密的半导体制造需求，极大提升良品率问题。
这是因为EUV光刻机采用的是极紫外光源，而DUV光刻机使用的是深紫外光源。
EUV光源的波长约为13.5纳米，比DUV光源的波长要短得多，可以实现更加精细的分辨率和更小的工艺尺寸，较短的波长能够产生更细腻的图像。
但并不是没有缺点，制造和维护成本都较高，光源的稳定性、镜片制造依旧是个难题，没有三五年，想要应用到半导体工业中，简直痴心妄想。
一行人来到制造部门，换上无尘服、静电消除鞋、帽子和头套，以及防护面罩，以应对车间中可能存在的一些化学品喷洒、粉尘飞扬等风险。
众人站在一旁，随着陈河宇示意。
一名操作员出列，立马取出一块8英寸晶圆，经过仔细观察，确保表面没有任何杂质和污染物，又拿出带有电路图案的透明底片，也就是光掩膜的模板，小心翼翼放置在光刻机上。
“继续吧。”
陈河宇对这些操作并不陌生，系统在录入Fan-Out封装技术后，脑子里便多出几十年芯片封测经验，可以看出操作员的动作非常娴熟。
处理到这里，操作员又使用旋涂机
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